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                產(chǎn)品中心
              
            
        
            
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    聯(lián)系方式

        
    
        中船(邯鄲)派瑞特種氣體股份有限公司
        
地址：河北省邯鄲市肥鄉(xiāng)區(qū)化工工業(yè)聚集區(qū)緯五路1號(hào)
        
電話：0310-7182720
        
郵箱：pericsg@pericsg.com
        


        

        
 
        
            
        

        
    
        

        
            
        
                
        
    
        
    
        
    
        
        
    六氟乙烷
        

        
    
        化學(xué)式：C2F6
        


        純度規(guī)格：5N
        


        用途：清洗、刻蝕
        


        主要應(yīng)用領(lǐng)域：集成電路（LOGIC/DRAM/3D NAND）、光纖
        


        
        
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    八氟丙烷
        

        
    
        化學(xué)式：C3F8
        


        純度規(guī)格：5N5
        


        用途：清洗、刻蝕
        


        主要應(yīng)用領(lǐng)域：集成電路（LOGIC/DRAM/3D NAND）
        


        
        
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    六氟丁二烯
        

        
    
        化學(xué)式：C4F6
        


        純度規(guī)格：4N
        


        用途：刻蝕
        


        主要應(yīng)用領(lǐng)域：集成電路（LOGIC/DRAM/3D NAND）
        


        
        
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    氘氣
        

        
    
        化學(xué)式：D2
        


        純度規(guī)格：5N
        


        用途：熱處理、光纖抗老化處理
        


        主要應(yīng)用領(lǐng)域：集成電路（LOGIC/3D NAND）、光纖
        

        
        
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    六氟化鎢
        

        
    
        化學(xué)式：WF6
        


        純度規(guī)格：6N
        


        用途：沉積
        


        主要應(yīng)用領(lǐng)域：集成電路（LOGIC/DRAM/3D NAND）
        

        
        
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    氦氮混氣、氙氫混氣、氧氦混氣、氪氖混氣、氬氙氖混氣等
        

        
    
        純度規(guī)格：6N
        


        用途：刻蝕、退火、光刻等
        


        主要應(yīng)用領(lǐng)域：集成電路（LOGIC/DRAM/3D NAND）、顯示面板、光纖
        

        
        
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    氯化氫
        

        
    
        化學(xué)式：HCl
        


        純度規(guī)格：5N
        


        用途：清洗、刻蝕
        


        主要應(yīng)用領(lǐng)域：集成電路（LOGIC/DRAM/3D NAND）
        

        
        
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    四氟化硅
        

        
    
        化學(xué)式：SiF4
        


        純度規(guī)格：5N
        


        用途：沉積
        


        主要應(yīng)用領(lǐng)域：集成電路（LOGIC）、光纖
        

        
        
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    八氟環(huán)丁烷
        

        
    
        化學(xué)式：C4F8
        


        純度規(guī)格：5N
        


        用途：清洗、刻蝕
        


        主要應(yīng)用領(lǐng)域：集成電路（LOGIC/DRAM/3D NAND）
        


        
        
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    氟化氫
        

        
    
        化學(xué)式：HF
        


        純度規(guī)格：5N
        


        用途：清洗、刻蝕
        


        主要應(yīng)用領(lǐng)域：集成電路（LOGIC/DRAM/3D NAND）
        

        
        
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    三氟化氮
        

        
    
        化學(xué)式：NF3
        


        純度規(guī)格：5N
        


        主要用途：清洗、刻蝕
        


        主要應(yīng)用領(lǐng)域：集成電路（LOGIC/DRAM/3D NAND）、 顯示面板
        


        
        
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